♦️高质量 GaN 晶圆,用于研究和实验。
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GaN on Si 规格:
- GaN 层
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总缺陷:<1000(缺陷尺寸≥0.3um);
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AlGaN 势垒:30+/-20nm(均匀性<10%);
-
总厚度:2700+/-500nm(均匀性<10%);
- 硅衬底
- 尺寸:6英寸;
- 类型:P;
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方向:111;
- 电阻率:0.002 欧姆-厘米;
-
厚度:675um±15;
- 背面表面:研磨和酸蚀刻;
- 包装:晶圆盒;
- 生产时间:6~8周;
