SOKA TECHNOLOGY
蓝宝石基氮化镓晶圆 4英寸 PG GaN 氮化镓 半导体衬底
尺寸:4英寸
数量:3件
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蓝宝石衬底上的氮化镓规格:
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衬底:蓝宝石;
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直径:100±0.5mm;
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晶向:C平面0.2±0.1°偏向M平面;
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厚度:750±25um;
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定向边:A平面±0.3°;
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定向边长度:30±1mm;
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正面:Epi-ready Ra ≤0.5nm(典型);
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背面:Epi-ready Ra ≤0.5nm(典型);
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总厚度变化 (TTV):≤10um;
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弓曲:-10~10um;
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翘曲:≤ 15um;
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激光刻印:有;
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外延片结构
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第二层:N-GaN 2~3um;
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第一层:缓冲层 2~3um;
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第0层:衬底;
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外延特性
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总外延厚度:5~6um;
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厚度标准偏差:<3%;
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XRD GaN (002):≤100 弧秒;
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XRD GaN (102):≤100 弧秒;
位错密度:~ 1e7 cm-2;
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导电性:N型;
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电阻率:≤0.1 (ohm-cm);
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表面粗糙度:Ra ≤ 1.0 nm;
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SORI≤ 120 um;
